1977 Gegründet als Lohngalvanik
1984 Neuaufbau als Leiterplattenfertigung
1993 Umzug in
neue Fertigung (Werk 1)
1994 Einführung modernes PPS-System
1995 Einführung CAM
1995 Gründung Joint Venture H&S CEE
SA
1996 Beginn Multilayerproduktion
1999
Zertifizierung ISO 9002
1999 Erweiterung der
Produktionsfläche (Werk 2)
2000 Mechanische Microvias
2002
Lasermicrovias, SBU, HDI
2002 Neuzertifizierung ISO
9001:2000
2003 Flex- und Starrflexproduktion
2003
Impedanzkontrollierte Leiterplatten
2004
Weiterentwicklung Multilayer-HDI Prozess
2004 Erste
doppelseitige Sprühanlage für Lötstopplack
2005 Komplette
RoHS-konforme Leiterplatte
2005 Ausbau der Fertigung für
flexible und starrflexible LP
2005 Ausbau der
HF-Produktion
2006 Aufbau MOS-Verbund (China)
2007
Ausbau HDI Produktion
2007 Einführung Envision Prozess
2007 Ausbau Qualitätsicherung Handelsware
2008 Einführung
LDI
2009 Aufbau
2-mil-Technologie (50µm line / space)
2010 Ausbau
Dickkupfertechnologie / Einpresstechnik
2011 Gründung
MOS-Glaretec GmbH (Entwicklung neuer
Technologien)
2012 In-house Fertigung Flex-/Starflex-LP
2012 Fertigungsneubau: 2.500 m2 (Werk 3) |
Werk 1
Werk 2
Erstes Produktionsgebäude |
