Visual - Werk 3 Fertigungsneubau

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Historie

1977 Gegründet als Lohngalvanik
1984 Neuaufbau als Leiterplattenfertigung
1993 Umzug in neue Fertigung (Werk 1)
1994 Einführung modernes PPS-System
1995 Einführung CAM
1996 Beginn Multilayerproduktion
1999 Erweiterung der Produktionsfläche (Werk 2)
2000 Mechanische Microvias
2002 Lasermicrovias, SBU, HDI
2003 Flex- und Starrflexproduktion
2003 Impedanzkontrollierte Leiterplatten
2004 Weiterentwicklung Multilayer-HDI Prozess
2004 Erste doppelseitige Sprühanlage für Lötstopplack
2005 RoHS-konforme Leiterplatte
2005 Ausbau der HF-Produktion
2006 Aufbau MOS-Verbund (China)
2008 Einführung LDI
2009 Aufbau 2-mil-Technologie (50µm line / space)
2010 Ausbau Dickkupfertechnologie / Einpresstechnik
2011 Gründung MOS-Glaretec GmbH (Entwicklung neuer
          Technologien)
2012 Erweiterung Fertigung Flex-/Starflex-LP
2013 Fertigungsneubau: 2.500 m2 (Werk 3)
2015 Neue Reinraumtechnologie für Fotodruck
2016 Erneuerung der Lötstopplackprozesse und
          Vollautomatisierung des Fotodrucks
Werk 1
Werk 1

Werk 2
Werk 2

Werk 3 - Fertigungsneubau
Werk 3 - Fertigungsneubau


Erstes Produktionsgebäude
Erstes Produktionsgebäude



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